潔凈室濕度怎么設(shè)定？

潔凈室的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢，這從下面對(duì)比可以看出。

潔凈室的濕度要隨著工藝的不同而不同，不過在滿足工藝要求的前提下，也要考慮潔凈室工作人員的舒適度。不過對(duì)于潔凈室的濕度設(shè)定并不是一個(gè)固定的數(shù)值，目前，隨著生產(chǎn)工藝的要求的提高，潔凈室的濕度控制也要求越來越嚴(yán)格，從下圖中就可以看出來。

具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。

  濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對(duì)濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)**溫度范圍為35—45%。

人體舒適感一般與下列因素有關(guān)：空氣溫度濕度，吹過人體的空氣速度，所在空間內(nèi)各種表面溫度，人的活動(dòng)強(qiáng)度，生活習(xí)慣，衣著情況，年齡性別等。

上述幾種不同因素的組合可以給人以相同的冷熱感覺即舒適感。在浩凈室中由于工作人員都穿潔凈工作服，有時(shí)還穿兩套這樣的工作服，而潔凈工作服一股是用尼龍、的確良等制做，透氣性較差，所以潔凈定中感到較舒適的溫濕度比一般環(huán)境的較低。所以(空氣潔凈技術(shù)措施》建議除工藝要求外，潔凈室溫度宜采用18—26度，相對(duì)溫度則宜用40—60%,夏季取上限，冬季取下限。

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